PVD-Beschichtungen werden in Vakuumkammern, teilweise mit Unterstützung von zusätzlich installierten Ionenquellen (IBAD) oder in Plasmen durchgeführt. Die Ionenquellen können ein breites Energiespektrum abfahren, sodass sich die Energieeinträge exakt hinsichtlich einer Prozessoptimierung einstellen lassen. Aufgedampft können Elemente und Legierungen, wobei die Abscheidung auf dem Substrat durch zusätzlichen Energieeintrag unterstützt oder gesteuert wird. Beim IBAD Verfahren werden die Ionen mittels Ionenquellen erzeugt. Auch bei diesem Verfahren kann man Verbindungen erhalten, wobei die reaktiven Elemente sowohl als Gase in die Vakuumkammer eingelassen, als auch als reaktive Ionen aus der Ionenquelle extrahiert werden können. Vorteil der IBAD-Methode ist eine verbesserte Schichtadhäsion und eine sehr gute Kontrolle von vielen Schichteigenschaften wie Eigenspannung, Rauhigkeit, Härte usw. Durch Einbau einer Rollcoat-Vorrichtung können auch dünne Metall- und Kunststoffbahnen bis ca. 30 cm Breite kontinuierlich beschichtet werden. Die PVD- und IBAD Beschichtungsverfahren können bei Limedion in Vakuumkammern geführt werden. Die Anlagen sind mit Elektronenstrahlverdampfern ausgestattet, die Schichtdickenmessung erfolgt in situ mittels unabhängiger Schwingquarzsysteme. Es existiert auch eine reaktive Variante von den PVD-Beschichtungen.
Hierbei wird das Aufdampfgut unter zusätzlicher Einleitung von reaktiven Gasen in die Vakuumkammer abgeschieden, wobei sich Verbindungen bilden. Typische Schichten sind Oxide, Nitride und Carbide, z.B. TiN, Al2O3, Wolframcarbid etc. Auch Multischichten wie z.B. Metall/Metallnitrid/Metall etc. sind möglich.
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